晶片製造核心裝備 國產離子注入機重大突破 (17:38) – 20260117 – 兩岸

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2026年1月17日星期六

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中核集團中國原子能科學研究院1月17日披露,由該院自主研製的中國首台串列型高能氫離子注入機(POWER-750H)成功出束,核心指標達到國際先進水平。

《科技日報》指出,有關進展標誌着中國已全面掌握串列型高能氫離子注入機的全鏈路研發技術,攻克了功率半導體製造鏈中的關鍵環節,為推動高端製造裝備自主可控、保障產業鏈安全奠定堅實基礎。

離子注入機與光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備,並稱為晶片製造「四大核心裝備」,是半導體製造不可或缺的「剛需」設備。

長期以來,中國高能氫離子注入機完全依賴國外進口,其研發難度大、技術壁壘高,是制約中國關鍵技術產業升級發展的瓶頸之一。(科技日報)

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