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發佈日期
2026-07-28
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4分鐘
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科技媒體 The Information 引述消息指，總部設於上海、具國資背景生產商已開始量產自主研發浸沒式深紫外線 DUV 光刻機，並計劃今年內交付首批機台予內地晶片龍頭中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲 CXMT。消息一出，ASML 股價隨即受壓，反映市場重新評估其在華業務前景。
幕後生產商為矞量興
報道指出，計劃整合多家中國企業 DUV 研發團隊，核心角色由上海矞量興科技擔任。該公司具國資背景，並與 Huawei 及晶片設備集團 SiCarrier 有連繫。中芯國際早於 2025 年 9 月已開始測試矞量興生產機台。設備採用類似 ASML 浸沒式光刻技術，大部分零件屬國產，但部分關鍵組件仍需依賴日本供應。
產量規劃分階段推進
該生產商今年目標產量約 5 部機台，明年計劃增至約 20 部。相比之下，ASML 去年全球出貨 48 部 EUV 系統及 131 部浸沒式 DUV 機台，今年預計維持約 130 部浸沒式系統出貨規模，可見國產設備現階段規模仍屬有限。中芯國際大規模部署國產機台最早或要到 2027 年才有望實現，實際進度取決於設備品質及可靠度能否達標。
技術水平仍落後多代
據報道分析，國產機台設計用於 28 納米級單次曝光製程，配合多重曝光技術理論上可達 7 納米甚至 5 納米，但良率較低、單位晶片成本較高。技術水平大致相當於 ASML 約 2008 年推出、應用於 32 納米製程 Twinscan NXT:1950i 型號，與 ASML 現時旗艦 DUV 機台 TWINSCAN NXT:2150i 相比，在產能及精度上仍落後多代。不過，中芯國際今年較早時已憑 DUV 設備配合多重曝光技術，成功生產出效能接近台積電 N6 製程晶片，反映即使未有 EUV 設備，國產技術路線仍具一定進展空間。
美國國會擬立法收緊出口
美國國會目前正推動《MATCH Act》法案，一旦通過將以法律形式收緊 ASML 向中芯國際、華虹及 CXMT 等企業銷售及提供 DUV 設備維修服務，而上述三家正是國產光刻機優先供應對象。中國在 2025 年為 ASML 最大市場，佔其總銷售額 33%，ASML 今年 1 月已預期該比例將降至 20%，而今年首季實際數據顯示中國佔系統銷售比例已降至 19%，遠低於 2025 年第四季 36% 及第三季高位 42%。
資料來源：Tom’s Hardware